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会议时间:2020 年 6 月 27 日 - 29 日
会议地点:上海新国际博览中心

 

飞纳电镜展位号:E3369

 

飞纳台式扫描电镜能谱一体机 Phenom ProX

随着半导体科技的进步,电子器件早已融入到人类生活的方方面面,但随着生活质量和生活方式不断变化,人们对于电子器件的使用要求以及功能也提出了新的要求,使得更严格的品质管控势在必行。

 

扫描电镜及 EDS 能谱仪是半导体以及封装失效分析的重要工具。在封装缺陷和失效分析中,可以通过 SEM-EDS 对焊接或互联界面情况进行高分辨表征,提供更高放大倍率的金属间化合物界面、裂缝和相关缺陷的微区成像以及元素分析。

 

  

封装缺陷

 

 

优中心样品杯——多角度自由倾斜旋转

  

多角度检查焊接情况

 

IC 去层分析 (Delayer)

 

无论对于工艺设计,还是生产控制或者缺陷分析。去层分析是一种重要手段。

 

交互使用各种不同处理方式(离子蚀刻 / 化学药液蚀刻 / 机械研磨),使芯片本身多层结构(Passivation, Metal, IDL)可一层一层去除,也就是芯片去层(Delayer)。通过层次去除(Delayer)可逐层检视是否有缺陷,并可提供后续实验,清楚呈现出每一层电路布线结构。

 

  

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