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实时监测
PANDORA 也配备了在线分析系统，可以对前驱体与副产物进行实时监测，从而进行沉积工艺改良。
In-situ QCM
ALD 是微量的沉积方式，故常规手段无法测量薄膜的质量，因此 PANDORA 采用石英微天平可以实时监测材料的质量变化，帮助研究者获得更高质量的薄膜。
反应观察窗
研究者可通过窗口实时观察粉末在腔室中的运转情况
符合 cGMP 要求
PANDORA 可以应用于药物的表面改性及包覆，从而提升药物的物理及化学性能。
| 前驱体通道 | 2-6 |
| 连续流 / 静态流兼容 | |
| 反应腔 | 100ml 粉末腔 / 10×10cm 平面 |
| 反应腔结构 | 旋转式 |
| 反应腔温度 | 最高 200℃ |
| 配件 | In-situ QCM，等离子发生器，臭氧发生器，在线式气体分析系统，冲压辅助装置 |
| 支持样品 | 粉末，纤维，平面样，器件，药物 |
对于学术研究，液相法是进行粉末表面包覆改性的重要方法，但对于大多数研究者而言，寻找合适的工艺以及普适性较高的方案是费时耗力的工作，且液相法会造成大量的原料浪费，同时并不能实现完全均匀的包覆。包覆层会出现较多的缺陷或颗粒团聚，影响材料最终的性能。而对于敏感性较高的材料，如锂电电极粉末，液相法可能对材料性能产生不可逆的影响。
ALD 是自限制性的薄膜沉积技术，可以在粉末材料表面形成均匀的包覆，即便是孔隙率高的多孔结构，ALD 也有较好的均一性。