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原子层沉积包覆方案介绍
Forge Nano 是全球领先的原子层沉积包覆方案供应商,可提供从研发到工业生产的“端到端”服务,团队基于独家的原子层沉积技术,可实现大批量的粉末原子层沉积包覆(kg-ton)以及超快平面沉积(12-30nm/min)。
产品列表
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P 系列粉末原子层沉积系统
P 系列粉末原子层沉积系统
粉末包覆可有效提升材料性能与使用寿命,如锂电正极或负极材料,经过表面包覆处理后在放电性能及循环使用寿命方面都有明显提升,但目前工业的包覆手段以机械混合的干法为主,该方法包覆均匀性较差,性能提升有限。ALD 技术可实现高精度及均匀包覆,是理想的包覆手段。Forge Nano 针对粉末类材料比表面积大的特点,采用流化床技术实现粉末材料的流化,从而保证前驱体与粉末实现充分的接触。P系列是Forge Na...
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PANDORA 多功能台式原子层沉积系统
PANDORA 多功能台式原子层沉积系统
PANDORA 是高度集成的台式原子层沉积系统,可摆放在实验室的任意角落,采用旋转式反应腔实现对粉末材料的分散,有更高的兼容性。对于平面样品,则可快速插入平面反应台,实现样品的切换。PANDORA 高度集成的特点提高了使用效率,使用者甚至在安装的第一天便可以开始 ALD 实验。
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THEIA 超快平面原子层沉积系统
THEIA 超快平面原子层沉积系统
THEIA 是一款高性能,稳定,灵活,可靠且安全的研发型原子层沉积系统,兼具工业生产解决方案的优势。THEIA 可进行升级改造,从而满足科学研究的各种需求,并实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。