Prometheus 流化床原子层沉积
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粉末材料因为较高的比表面积和表面缺陷的限制
存在易团聚、寿命短等缺陷
制约了其应用的发展
为了克服这些缺陷
采用粉体表面改性的方式可极大提升材料性能
而传统的液相包覆或气相包覆手段
无法实现均匀以及厚度的精密控制
限制了包覆技术的进一步发展
原子层沉积技术（ALD）
是一种自限制性的化学气相沉积手段
通过将目标反应拆解为若干个半反应
实现表面涂层的原子层级厚度控制
一般 ALD 二元反应机理示意图
原子层沉积技术制备的涂层具有
共形、无针孔和均匀的特点
利用原子层沉积方法在粉末表面构筑涂层的方式
被称为粉末 / 颗粒原子层沉积（PALD）
PALD 技术制备的薄膜更均匀 (左: 溶胶凝胶法；右: ALD)
Forge Nano 经过多年研发
已开发出低成本的规模化粉末原子层沉积包覆技术
成为使用 PALD 工艺进行
材料科学创新和商业化方面无可争议的领导者
广泛应用于锂电、催化、金属、制药等领域
目前已经为橡树岭国家实验室、马里兰大学
美国国家可再生能源实验室等研究院所
提供解决方案
ALD 原子层沉积技术具体是什么？
技术原理与难点是什么？
什么使用 ALD 技术包覆会更均匀？
ALD 技术与 PALD 技术有何区别？
PALD 设备可以实现包覆哪些粉末？
应用在哪些领域？
什么样的粉末材料适用于 PALD 设备？
该设备特有的流化床技术有那些特点与优势？
本期【飞纳三点半】
我们走进苏州体验中心
一起聊一聊原子层沉积技术
了解先进的粉末包覆设备
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