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UniMill 离子减薄仪
Product Introduction
UniMill 离子减薄仪
产品概况
产品概况

Technoorg Linda UniMill 离子减薄仪专为快速地制备具备高减薄率的、高质量的 TEM / XTEM 样品而设计。 UniMill 既可以使用全球独家的超高能离子枪进行快速研磨,也可以使用专用的低能离子枪进行最终抛光和精修处理。

基本参数
  • 离子枪:高能离子枪(标配);低能离子枪
  • 样品台:360° 旋转,从 ±10° 到 ±120° 移动,每 10° 连续可调
  • 成像系统:用于全视觉控制和切削监控/终止的 CMOS 相机图像
  • 供气系统:99.999% 纯氩气,绝对压力为 1.3 - 1.7 bar
  • 真空系统:Pfeiffer 真空系统配备无油隔膜和涡轮分子泵,配备紧凑 的全范围 Pirani / Penning 真空计
Practical features
UniMill 实用特点
  • 双重功能

    离子束的宽能量范围支持使用同一台仪器实现极高的研磨速率和温和的清洁功能。

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  • 易于使用和自动化操作

    UniMill 离子减薄仪配备了使用简单便捷的图形界面,可通过计算机进行控制。所有切削参数都可以按进行存储或预编程。 UniMill 的这种全自动功能可在最少的用户干预下制备高质量的样品。

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  • 样品冷却保护

    为了满足所有可能的需求,UniMill 提供两种不同的冷却选项:液氮冷却减少了离子束轰击过程中样品的过度加热。因此,可以在不破坏内部结构稳定性的情况下制备热敏材料;Peltier 冷却是一种舒适的保护,可防止过热并使样品保持在室温。

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  • 快速和机动化样品交换

    负载锁和机动化样品架驱动系统提供快速、简单的样品交换,尽可能减少用户操作,负载锁保护工作室内的真空度,为用户节省大量时间和精力。

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  • 在线监控和支持

    UniMill 附带用于在线技术支持的拓展软件,可通过互联网即时检测错误并及时消除问题。

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Application
UniMill 应用实列
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001 GaN 平面视角样品的 TEM 图像

UniMill 离子减薄仪适用于研究新型材料或探索新型样品制备方法的用户,由于设备具有极高的研磨速率,也非常适合用于低溅射率的材料,如金刚石、蓝宝石等。通过低能离子枪轰击获得无人工痕迹样品,这为技术科学和材料研究领域探索合成材料和天然材料的真实纳米结构提供了独特的机会。

 

如图是 001 GaN 平面视角样品的 TEM 图像。使用高能离子枪研磨后,样品通过 300 eV 的低能离子枪进行精细处理。

Application Cases
应用案例
UniMill 离子减薄仪
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