
在摩尔定律的驱动下,半导体制造工艺持续迈向微观极限。一颗肉眼无法察觉的微粒,一次微不足道的分子污染,都足以让价值数亿欧元的光刻机性能受损,导致芯片良率骤降。在这场对抗污染的无声战役中, 清洁度即是竞争力。Fastmicro SAS(Sample Scanner)系列产品,正是这场战役中不可或缺的尖端侦察兵,为全球半导体设备龙头 ASML 及其庞大供应链的精准管控,提供了至关重要的数据基石。
EDS+SEM 的自动化解决方案允许用户识别各类污染物颗粒并采集其化学成分信息,然后分析污染物具体的构成并分类。
使用飞纳 Particle X,电镜就可以自动识别每一颗颗粒,并在这些颗粒上做能谱分析。


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